酸性蚀刻也叫氯化铜酸性蚀刻系统,通常使用于单面板蚀刻,多层板的内层蚀刻或Tenting流程的外层蚀刻上,因这些制程都用干膜或液态感光油墨作为蚀刻阻剂,而这几种感光材料相对而言均为耐酸不耐碱性的特性,故选用酸性蚀刻。
蚀刻过程预防氨水的过量挥发。蚀刻过程中随着铜的溶解,需不断补充氨水和氯化铵.而氮的挥发性是很大的,通常在作板时也不应将抽气开得太大,以免挥发过快.药水耗量增加而在不作板时一定要记得将抽气等阀门关闭,以免氨气白白挥发浪费掉。
酸性蚀刻的种类:
1、H2O2/HCI系列。
2、NaCIO3/HCI系列。
酸性蚀刻制作流程:
1、单面板
铜面前处理→印刷线路烘烤→固化酸性蚀刻→去膜
2、内层和外层(Tenting流程)
铜面前处理→压膜→爆光→显影→酸性蚀刻→去膜。